半导体原子层沉积（ALD）设备机架、零部件制造
半导体等离子增强原子层沉积设备机架及零部件制造
半导体PVD物理气相沉积设备机架、零部件制造
半导体金属化学气相沉积设备机架、零部件制造
半导体MOCVD外延设备机架、零部件制造
半导体扩散炉设备机架、零部件制造
半导体外延沉积设备机架、零部件制造
半导体离子注入机机架、零部件制造
半导体光刻机设备机架、零部件制造
半导体刻蚀设备机架及关键零部件制造
半导体沉积工艺设备机架及关键零部件制造
半导体清洗设备机架及关键零部件制造
半导体量测设备机架及关键零部件制造
半导体二手设备机架翻新加工服务
半导体设备机架、柜壳定制，精密钣金加工，支持非标定制
用于半导体工艺气体的安全输送与控制
特种气体柜，用于有毒有害气体的安全存储和输送
双瓶组气柜，实现气体的自动切换供气
气瓶存储架，用于高压气瓶的安全存储
半导体气路盘面定制加工
SUS304 / SUS316L / SUS316Ti，耐腐蚀、高强度
Q235B / SPCC / SGCC，设备底座、重载框架
TC4 / Gr2 / Gr5，轻量化、高强度、耐腐蚀
6061-T6 / 5052-H32 / 7075-T6，轻质散热
Haynes 276 / C-276 / C-22，极耐腐蚀
SUS304 / SUS316L，耐腐蚀、高强度
PEEK / PI聚酰亚胺 / PTFE，耐高温绝缘
6061-T6 / 7075-T6，轻质易加工
TC4 / Gr5，轻量化、高强度
6061-T6 / 5052-H32，散热轻质
静电吸附粉末，高温固化附着力强，环保耐用
高压喷涂，油漆均匀覆盖，颜色丰富可选
电解氧化处理，提升耐腐蚀性，可做彩色装饰
喷射磨料清理表面，去除氧化皮，增加涂层附着力
丝网印刷，标识铭牌制作，耐磨耐候
| 材料 | 牌号 | 密度 | 抗拉强度 | 典型应用 |
|---|---|---|---|---|
| 不锈钢 | SUS304 / SUS316L / SUS316Ti | 7.9 g/cm³ | ≥515 MPa | 真空腔体盖板、湿法设备支架、EMI屏蔽外壳 |
| 铝合金 | 6061-T6 / 5052-H32 / 7075-T6 | 2.7 g/cm³ | ≥275 MPa | 机械臂运动部件、散热模组、非承重面板 |
| 钛合金 | TC4 / Gr2 / Gr5 | 4.5 g/cm³ | ≥900 MPa | 设备框架、EUV光刻机框架、腐蚀性气体管路 |
| 碳素结构钢 | Q235B / SPCC / SGCC | 7.85 g/cm³ | ≥375 MPa | 设备底座、重载框架、面板、电柜壳体 |
| 无氧铜 | C101 / C110 / TU1 | 8.9 g/cm³ | ≥220 MPa | 高频电气连接、均温板、散热部件、镀金基材 |
| 黄铜 | H62 / H65 / HPb59-1 | 8.5 g/cm³ | ≥400 MPa | 小螺纹连接件、阀体、接头、装饰件 |
| 可伐合金 | Kovar / 4J29 / 4J36 | 8.3 g/cm³ | ≥450 MPa | 真空密封封装、玻璃金属封接、TK组件 |
| 因瓦合金 | Invar 36 / 4J36 | 8.1 g/cm³ | ≥490 MPa | 精密光机结构、测量基准件、热稳定部件 |
| 哈氏合金 | Haynes 276 / C-276 / C-22 | 8.9 g/cm³ | ≥690 MPa | 腐蚀性气体环境、氯化物介质、高温耐蚀结构件 |
| 尼龙 | PA66-GF30 / MC尼龙 | 1.35 g/cm³ | ≥80 MPa | 绝缘结构件、耐磨衬套、夹具、固定座 |
| PTFE / PEEK | PTFE / PEEK / PVDF | 1.3~2.2 g/cm³ | ≥40 MPa | 密封圈、耐腐蚀内衬、高温绝缘、高纯气体管路 |
| 聚甲醛 | POM-C / POM-H（杜邦） | 1.41 g/cm³ | ≥65 MPa | 绝缘垫圈、导轨滑块、运动齿轮、非金属轴承 |